Informace o projektu
Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
- Kód projektu
- GP202/08/P038
- Období řešení
- 1/2008 - 12/2010
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Postdoktorské projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
- Klíčová slova
- magnetronové naprašování, hybridní PVD-PECVD, hysterezní chování, příprava tenkých vrstev, nanokompozit, BCN
Tento projekt je zaměřen na studium chování hybridního PVD-PECVD procesu, který bude využit pro přípravu nanokompozitních n-Ti:C/a-C:H a a-BCN:H materiálů. Jako zdroj uhlíku pro přípravu tenkých vrstev bude použit některý z plynných uhlovodíků dodávaný přímo do depozičního reaktoru, který zcela nahradí tradiční rozprašování uhlíkového terče. Hysterezní chování tohoto depozičního procesu a vlastnosti jím připravených vrstev budou srovnány s PVD procesem. Bude provedena srovnávací studie pro různé druhy uhlovodíků. Na základě provedených experimentů bude vylepšen stávající model reaktivního magnetronového naprašování. Tento model bude pracovat s nerovnoměrným tvarem hustoty výbojového proudu a bude rozšířen o interakci plynného uhlovodíku s povrchem magnetronové katody a stěnami depozičního reaktoru.
Publikace
Počet publikací: 37
2010
-
Diagnostics of reactive magnetron sputtering
Rok: 2010, druh: Vyžádané přednášky
-
Higher harmonic frequencies in capacitive discharges
Bulletin of the American Physical Society 55 (2010), CTP142, rok: 2010
-
Higher harmonic frequencies in capacitive discharges
63rd GEC and 7th ICRP - Conference Proceedings, rok: 2010
-
Hybrid PVD-PECVD process: focusing on modelling and steady-state conditions
Rok: 2010, druh: Konferenční abstrakty
-
Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering
Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings, rok: 2010
-
Monitoring of magnetron target poisoning by measurement of higher harmonics of discharge voltages
Plasma Sources Sci. Technol., rok: 2010, ročník: 19, vydání: 5
-
Monitoring of PVD, PECVD and etching plasmas using Fourier components of RF voltage
Plasma Physics and Controlled Fusion, rok: 2010, ročník: 52, vydání: 12, DOI
-
Preparation of self-adhesive nc-TiC/a-C:H coatings
Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings, rok: 2010
-
Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas
Rok: 2010, druh: Konferenční abstrakty
2009
-
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process
Europhysics Letters, rok: 2009, ročník: 85, vydání: 1